真空爐選要根據(jù)所要熱處理的零件化學(xué)成分和加熱溫度完成須滿意金屬氧化物與一氧化碳平衡分。解壓的聯(lián)系而且要考慮必定的地步，不要尋求高的真空度，真空度過(guò)高不只會(huì)形成合金元素的蒸發(fā)，而且會(huì)形成設(shè)備的裝備提高出資費(fèi)用增加。
冷。卻方式：真空爐的冷。卻有油冷和氣冷。現(xiàn)在首要以氣冷為主，由于氣冷對(duì)熱處理零件無(wú)任何污染和不。良影響，油冷有外表微滲碳問題對(duì)質(zhì)量有影響。處理后零件外表潔凈不需求清洗。所以在滿意冷。卻速度的條件下一般以氣冷淬火作為優(yōu)先。氣冷的冷。卻速度首要受氣壓、流速與氣流的方式和散布等要素的影響，在進(jìn)行挑選時(shí)要。全。面考慮。一般狀況氣壓高、流速大、冷。卻速度快，即冷。卻速度是直接遭到氣壓和流速的影響。別的氣冷時(shí)換熱器冷。卻水的流量巨細(xì)關(guān)于實(shí)踐冷。卻有顯著的影響。
加熱元件方式：真空爐加熱元件的方式和資料有必定的不同一般以板式和棒式為多資料為高質(zhì)量石墨。近年來(lái)CFC碳碳復(fù)合資料的呈現(xiàn)表現(xiàn)出較大的技術(shù)優(yōu)勢(shì)有替代石墨的趨勢(shì)。相同功率的狀況下CFC資料厚度薄相對(duì)蓄熱小有利于進(jìn)步冷。卻速度。
功用：置辦爐子要考慮工藝的通用性即淬火回火運(yùn)用溫度規(guī)模要寬。特別是處理高合金鋼回火溫度較高而且淬火后不出爐直接進(jìn)行回火非常便利。
控制系統(tǒng)：控制系統(tǒng)是真空加熱爐的中心部分確保其可靠性和完善性及其重要。適當(dāng)好有監(jiān)控和毛病顯現(xiàn)、記載功用關(guān)于進(jìn)口設(shè)備需求裝備長(zhǎng)途監(jiān)控功用這樣能夠確保毛病處理的及時(shí)性削減必定的修理費(fèi)用。
